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        等離子體光譜儀誤差的產(chǎn)生有哪幾方面的原因

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          等離子體光譜儀具有許多大型光譜儀所不具備的優(yōu)點,如重量輕、體積小、探測速度快、使用方便、可集成化、可批量制造以及成本低廉等,這使得該儀器在各領(lǐng)域具有很廣闊的應(yīng)用前景。
         
          精度始終是決定等離子體光譜儀測量的關(guān)鍵,分析的是被測樣品在各光波波長下吸收或反射的光強大小。而在實際光譜儀設(shè)計制造中會存在一定的誤差,這就很難用簡單的光柵公式直接預(yù)測波長的具體位置。
         
          在等離子體光譜儀中,光波波長是由CCD像素所反映的,因此在實際測量中由于環(huán)境和時間的影響會引起光波波長與像素之間的變化,光譜儀中各CCD像素所對應(yīng)的實際光波波長必須準確確定,否則測量的準確度就會降低。所以,為了得到準確的測量結(jié)果,光譜儀在使用前必須進行嚴格的標定,確定CCD像素和光波波長的對應(yīng)關(guān)系。
         
          根據(jù)等離子體光譜儀誤差的性質(zhì)及產(chǎn)生原因,誤差可分為下面幾種:
         
          一、系統(tǒng)誤差的來源
         
          (1)標樣和試樣中的含量和化學組成不*相同時,可能引起基體線和分析線的強度改變,從而引入誤差。
         
          (2)標樣和試樣的物理性能不*相同時,激發(fā)的特征譜線會有差別從而產(chǎn)生系統(tǒng)誤差。
         
          (3)澆注狀態(tài)的鋼樣與經(jīng)過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結(jié)構(gòu)不相同時,測出的數(shù)據(jù)會有所差別。
         
          (4)未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過程中加入脫氧劑、除硫磷劑時,混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差。
         
          (5)要消除系統(tǒng)誤差,必須嚴格按照標準樣品制備規(guī)定要求。為了檢查系統(tǒng)誤差,就需要采用化學分析方法分析多次校對結(jié)果。
         
          二、偶然誤差的來源
         
          與樣品成分不均勻有關(guān)的誤差。因為光電光譜分析所消耗的樣品很少,樣品中元素分布的不均勻性、組織結(jié)構(gòu)的不均勻性,導(dǎo)致不同部位的分析結(jié)果不同而產(chǎn)生偶然誤差。主要原因如下:
         
          (1)熔煉過程中帶入夾雜物,產(chǎn)生的偏析等造成樣品元素分布不均。
         
          (2)試樣的缺陷、氣孔、裂紋、砂眼等。
         
          (3)磨樣紋路交叉、試樣研磨過熱、試樣磨面放置時間太長和壓上指紋等因素。
         
          (4)要減少偶然誤差,就要精心取樣,消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷,也可以重復(fù)多次分析來降低分析誤差。
         
          三、其他因素誤差
         
          (1)氬氣不純。當氬氣中含有氧和水蒸氣時,會使激發(fā)斑點變壞。如果氬氣管道與電極架有污染物排不出去,分析結(jié)果會變差。
         
          (2)室內(nèi)溫度的升高會增加光電倍增管的暗電流,降低信噪比。濕度大容易導(dǎo)致高壓元件發(fā)生漏電、放電現(xiàn)象,使分析結(jié)果不穩(wěn)定。

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